Smoltek, ett ledande företag inom nanoteknik, har nyligen tillkännagivit ett betydande genombrott i utvecklingen av deras CNF-MIM testkondensatorstrukturer. I samarbete med SkyTech har Smoltek lyckats optimera och utvärdera ALD-filmer som deponerats på deras egenutvecklade kondensatorer. Resultatet är en kapacitansdensitet som överstiger 1 mikrofarad per kvadratmillimeter (1 µF/mm²), med en aktiv skikttjocklek på endast 6 mikrometer. Detta motsvarar en volymetrisk kapacitansdensitet som överstiger 160 nF/mm²-µm, vilket är bland de högsta rapporterade i branschen.

Dr. Ghavanini, CTO på Smoltek, uttryckte sin entusiasm över att bryta 1µF/mm²-barriären och betonade vikten av deras långsiktiga investering i ALD-processutveckling. SkyTechs avancerade ALD-teknik har varit avgörande för att uppnå denna rekordbrytande prestanda. Nästa steg för Smoltek är att överföra detta genombrott från laboratorieprototyper till produktprototyper, med fokus på att förbättra processutbytet och isolationsmotståndet.

George Yi, vd för SkyTech, betonade vikten av samarbetet och hur kombinationen av materialinnovation och avancerad ALD-processkontroll kan leda till nya prestandanivåer. Detta partnerskap visar potentialen i att tänja på gränserna för kondensatorteknik och möjligheterna för framtida produktintegration.

För investerare innebär detta genombrott att Smoltek befinner sig i en stark position för att kapitalisera på den ökande efterfrågan på högpresterande, ultratunna kondensatorer inom elektronikindustrin. Med tanke på företagets framsteg och framtida planer, rekommenderas en 'buy' strategi för investerare som söker långsiktig tillväxtpotential.